W sektorach półprzewodników i inżynierii precyzyjnej pomiarymikroskopsłuży jako podstawowy instrument kontroli jakości, a jego dokładność i wydajność bezpośrednio wpływają na wydajność produktu i koszty produkcji. Niedawno wielu producentów i instytucji badawczych wprowadziło na rynek nowe produkty mikroskopów pomiarowych i przełomowe rozwiązania techniczne ukierunkowane na różne scenariusze zastosowań, wynosząc kontrolę mikrowymiarową na nowy poziom.
Jeśli chodzi o modernizację sprzętu, firma Nikon Metrology zaprezentowała swój wideosystem pomiarowy NEXIV VMZ-S i linię produktów mikroskopów pomiarowych na wystawie SEPEM w Grenoble w listopadzie 2026 r. System VMZ-S łączy w sobie wysoce precyzyjną optykę, inteligentną automatyzację i intuicyjne oprogramowanie pomiarowe, zaprojektowane specjalnie do zastosowań w półprzewodnikach, elektronice i produkcji precyzyjnej, umożliwiając szybką i powtarzalną kontrolę wymiarową miniaturowych, złożonych elementów. Mniej więcej w tym samym okresie firma Vision Engineering wprowadziła na rynek cyfrowy mikroskop inspekcyjny PicoZoom z autofokusem, wypełniając lukę pomiędzy platformami podstawowymi i zaawansowanymi. System wyposażony jest w motozoom i autofokus uruchamiany jednym kliknięciem, z zakresem zoomu optycznego od 0,7x do 4,5x i powiększeniem systemowym od 18,9x do 121,8x. Funkcja ustawiania ostrości łączy obrazy zarejestrowane w różnych płaszczyznach ogniskowych w ostry obraz kompozytowy, skutecznie zwiększając głębię ostrości w przypadku elementów o charakterystyce głębi, takich jak połączenia lutowane i części gwintowane. Wbudowane narzędzia do wymiarowania i tworzenia raportów umożliwiają operatorom wykonywanie pomiarów, dokumentowanie i generowanie raportów w systemie, wspierając dokumentację kontroli jakości i identyfikowalność, a cena katalogowa w Wielkiej Brytanii zaczyna się od 3250 GBP.
Badania akademickie na pograniczu technologii nadal poszerzają granice możliwości mikroskopów pomiarowych. Badanie opublikowane w czasopiśmie Measurement Science and Technology badało możliwości pomiarowe punktowej mikroskopii z autofokusem (PAM) w przypadku stromych powierzchni. Tradycyjny PAM jest ograniczony obiektywną aperturą numeryczną, przy czym maksymalne mierzalne kąty zwykle nie przekraczają 20°. W badaniu zaproponowano zastosowanie zasad rozproszonego światła odbitego i stronniczego padania w celu rozszerzenia mierzalnych kątów pochylenia do 0°–80°, uzyskując submikrometryczną dokładność pomiaru w przypadku umiarkowanie szorstkich dyfuzorów optycznych. W innym badaniu wprowadzono nowatorską metodę pomiaru w osi Z opartą na mikroskopie jednookularowym i wysoce precyzyjnym stoliku pochyleniowym, syntetyzując sekwencje obrazów z wieloma widokami poprzez zaprogramowane nachylenie próbki w celu zastąpienia tradycyjnych systemów z wieloma kamerami, uzyskując metrologię wysokości na poziomie mikrometru przy jednoczesnym obniżeniu kosztów i złożoności systemu.
Od kontroli płytek półprzewodnikowych po weryfikację wymiarową i pomiary wyrobów medycznychmikroskopyw dalszym ciągu spełniamy pilne wymagania producentów dotyczące wyższej dokładności, większej szybkości i lepszej identyfikowalności dzięki innowacjom optycznym i technologiom automatyzacji.
Używamy plików cookie, aby zapewnić lepszą jakość przeglądania, analizować ruch w witrynie i personalizować zawartość. Korzystając z tej witryny, wyrażasz zgodę na używanie przez nas plików cookie. Polityka prywatności
